BD-ULK Cu パターンウェハ2013.7.29

●膜構造
上部から・Cuメッキ800nm/Cu-Seed 60nm/Ta 10nm/ TaN 5nm/ TEOS cap 70nm/ BD2x(k=2.6) 275nm/ SiN 20nm/ SiO2 1-2nm/ 300mm Si
・BD2xをハーフエッチング
BD-ULK Cu pattern   


写真1.Post RIE X-SEM 分析(ウェハ中央)
BD-ULK Cu pattern2

写真2.X-SEM 測定分析 (ウェハ中央)
BD-ULK Cu pattern3
写真3.Post RIE X-SEM 分析(ウェハ先端)
BD-ULK Cu pattern4
写真4.X-SEM 測定分析(ウェハ先端)
BD-ULK Cu pattern5