当社では、半導体プロセスの研究開発に欠かせない膜付ウェハを幅広く取り揃えています。

酸化膜、窒化膜、金属膜など、多様なニーズに対応した高精度な成膜技術を駆使し、お客様の開発を強力にサポートいたします。

掲載しているラインナップ以外にも、対応可能な膜種がございます。
ご希望の仕様やご不明点がございましたら、お気軽にお問い合わせください。

※対応サイズ：100mm,150mm,200mm,300mm

●PVD

Al-Cu, Al2O3, Au, Co, Cu, HfO2, Mo, SiGe, Pt, Ru, Ta/TaN, Ti/TiN etc.

●CVD, ALD, Thermal Oxide

PE-TEOS, PE-SiN, LP-TEOS, LP-SiN, TiN-CVD, TiN-ALD, Co-CVD, Ru-CVD, Poly-Si, Amorphous-Si, HDP, HARP oxide, W-CVD, ACL, SiCN, SiON, Low-k, ULK, High-k, Th-Ox, etc.

●めっき

Au, Ag, Cu, Ni, SnAg etc.

●半導体有機膜材料

Photo Resist(I線,KrF, ArF), Polyimide, EMC, PBO, BCB etc.