MITマスク hot Al-Cu CMP ウェハ2012.6.19

MIT マスクによるhot Al-Cu CMP用パターンです。オーバーエッチング量面内10nm以下の制御が可能です。

MIT Mask hot Al-Cu CMP wafer MIT Mask hot Al-Cu CMP wafer(2)


0.18um LS 1:1 at wafer center/ edge

MIT Mask hot Al-Cu CMP wafer(3)
0.25um LS 1:1 at wafer center/ edge.   No void is found.