石英ウェハ、SiCウェハ上のレジストパターン加工2013.3.15

石英基盤、SiC基盤上にレジストパターン加工ができます。
ウェハ径は100mmから200mmに対応します。
•最小線幅= 0.5um 1:1

Top down view SEM写真
Resist patterning on quarts or SiC 
Resist patterning on quarts or SiC No.2